




一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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电子束蒸发源蒸镀法
将蒸发材料放入水坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,---适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术,根据电子束蒸发源的形式不同,又可分为环形,直,e型和空心阴极电子等几种。
环形是由环形的阴极来发射电子束,经---和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单,但是功率和效率都不高,真空镀膜报价,基本上只是一种实验室用的设备,目前在生产型的装置中已经不再使用。

真空镀膜行业由于其镀膜工艺,需要抽真空,因此都连接了真空系统,真空泵因此大量应用于真空镀膜行业,真空泵过滤器也具有大量需求。
真空镀膜过程中,使用的真空度一般要求在10的负3次方上下,真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一,它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。
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