要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏，因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体，有也许误以为是从外部流进的气体，这即是虚漏，要扫除这种状况。
第二，真空镀膜生产厂家，测验好真空室的气体密封功能，---气密功能符合要求。
第三，查看漏孔的巨细，形状、方位，漏气的速度，制备出可处理方案并施行。
第四，断定检查仪器的1小可检漏率和检漏灵敏性，以1---的检查出漏气状况，防止一些漏孔被疏忽，进步检漏的准确性。
第五，掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻，把时刻掌握好，---检漏仪器作业---，时刻少了，检漏作用必定差，时刻长了，糟蹋检漏气体和人工电费。
第六，还要防止漏孔阻塞，有时因为操作失误，检漏过程中，云南真空镀膜，一些尘埃或液体等把漏孔阻塞了，以为在该方位没有漏孔，但当这些阻塞物因为内外压强区别进步或别的缘由使漏孔不堵了，那漏气仍是存在的。
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1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜系统，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100a），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，sitio3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是sitio3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
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离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，真空镀膜，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
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