真空镀膜公司

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    2023-12-6

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真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法


制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。真空状态需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。

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真空镀膜系统主要构成

1.真空室

涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。

2.真空获得部分

在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

3.真空测量部分

真空系统的真空测量部分,就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样,没有一种真空计能测量整个真空范围,人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。

4.电源供给部分

靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)。

5.工艺气体输入系统

工艺气体,如氮气(n2)、氢气(h2)、氧气(o2)等,一般均由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。

6.机械传动部分

涂层要求周边必须厚度均匀一致,因此,在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。

7.加热及测温部分

涂层设备一般有不同位置的加热器,用热电偶测控温度。但是,由于热电偶装夹的位置与工件位置不同,温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度,有很多方法,可以在工件上装高温试纸或热偶计。

8.离子蒸发及溅射源

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,真空镀膜公司,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。

9.水冷系统

一般由冷水塔,冰水机,水泵等组成。

10.工控系统






真空度对真空镀膜有什么重大影响

真空镀膜行业由于其镀膜工艺,需要抽真空,因此都连接了真空系统,真空泵因此大量应用于真空镀膜行业,真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中,使用的真空度一般要求在10的负3次方上下,真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一,它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。






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