




产品介绍:溶剂净化系统利用利用低压净化圆管技术去除易1燃溶剂内的水分及氧份,安全有效地连续供应高纯度(低水低氧)有机1溶剂的装置。 利用惰性气体将储液器溶中的溶剂压入铜净化柱中,溶剂中的o2等杂质与除氧器中的氧化物作用,生成金属氧化物,实现---脱氧; 脱氧后的气体进人活性铝吸附器中,h2o等强吸附质被吸附剂吸附后,即得到高纯溶剂。
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众所周知,当前工业清洗剂主要分为溶剂型和水基型两种,那么在实际应用中它们又有哪些区别呢?
1、 方面:
碳氢清洗剂属于ods类物质,对---臭氧层有破坏作用,属于控制物质,水基溶剂是的、---的,可直接排放。
2、 设备方面:
水基型清洗后要用纯水漂洗,并需烘干,用电量稍大一些,同时占地面积相对较大,设备成本也对较高。机电设备清洗剂清洗后能自然发挥,工位相对较少,耗电量约低于水基清洗设备,它的占地面积相对较小。
3、 清洗效果方面
碳氢清洗剂采用的是直接溶解所以超声波清洗速度快,周期短,效果直接,。水基清洗是采用洗剂替换的方式,并且是两次替换(次是溶剂替换油污等杂质,定制溶剂纯化,第二次是纯水替换溶剂),替换后还需要烘干,故相对清洗时间较长,但水基清洗后没有残留问题。
4、 使用成本方面
溶剂型清洗剂使用原液清洗, 虽然可以重复使用,但由于其高挥发性,及产品的粘附性,其用量十分大。水基溶剂均是兑水使用,单价虽然约高于有机1溶剂,但用量小。水基漂洗需用纯水,但纯水的制水成本较低。
综上所述,两种清洗均能达到清洗效果,水基清洗的使用成本低,安全、。但设备复杂,溶剂型清洗剂清洗速度快、挥发快。
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在有机化学实验中,经常使用各类溶剂作为反应介质或用来分离提纯粗产物。由于反应的特点和物质的性质不同,对溶剂规格的要求也不相同。有些反应(如格氏试剂的制备反应)对溶剂的要求较高,即使微量杂质或水分的存在,也会影响实验的正常进行。这种情况下,就需对溶剂进行纯化处理,以满足实验的正常要求。
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