真空镀膜系统

现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法

涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(qcm)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过pid控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(qcm)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层。

此外，真空镀膜系统，虽然qcm在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。 光学监测是一种涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。

精度的提高，由于许多因素，但---的原因是光学厚度的监测。optimalswa-i-05单---长的光学监测系统，是间接控制，镀膜机---的光学监测软件结合王博士的发展，有效地---和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少终的误差的理论方法，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。---适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。

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真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法

制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。真空状态需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。

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