




1.真空室
涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。
2.真空获得部分
在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。
3.真空测量部分
真空系统的真空测量部分,就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样,没有一种真空计能测量整个真空范围,人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。
4.电源供给部分
靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf)。
5.工艺气体输入系统
工艺气体,如氮气(n2)、氢气(h2)、氧气(o2)等,一般均由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。
6.机械传动部分
涂层要求周边必须厚度均匀一致,因此,在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。
7.加热及测温部分
涂层设备一般有不同位置的加热器,用热电偶测控温度。但是,由于热电偶装夹的位置与工件位置不同,温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度,有很多方法,可以在工件上装高温试纸或热偶计。
8.离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。
9.水冷系统
一般由冷水塔,冰水机,水泵等组成。
10.工控系统
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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机械传动部分
涂层要求周边必须厚度均匀一致,因此,在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。即在要求大工件台转动(i)的同时,小的工件承载台也转动( ii),并且工件本身还能同时自转(iii)。在机械设计上,一般是在大工件转盘底部中央为一大的主动齿轮,真空镀膜价格,周围是一些小的星行轮与之啮合,如果要实现产品自转的话,一般用拨叉拨动工件自转。
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