真空镀膜系统哪里有-真空镀膜系统-北京艾明坷

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    2022-5-27

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常见的真空镀膜材料


氧化物一氧化硅sio,二氧化硅sio2,二氧化钛tio2,二氧化锆zro2,二氧化铪hfo2,一氧化钛tio,五氧化三钛ti3o5,五氧化二铌nb2o5,五氧化二钽ta2o5,氧化钇y2o3,真空镀膜系统,氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。

其它化合物---锌zns,---znse,氮化钛tin,碳化硅sic,钛酸---latio3,钛酸钡batio3,钛酸---srtio3,钛酸镨prtio3,硫1化镉cds等真空镀膜材料。

金属镀膜材料高纯铝al,真空镀膜系统哪里有,高纯铜cu,高纯钛ti,高纯硅si,高纯金au,高纯银ag,高纯铟in,高纯镁mg,高纯锌zn,高纯铂pt,高纯锗ge,真空镀膜系统多少钱,高纯镍ni,高纯金au,金锗合金auge,金镍合金auni,镍铬合金nicr,钛铝合金tial,锌铝合金znal,铝硅合金alsi等金属镀膜材料。 

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真空镀膜系统

离子蒸发及溅射源 

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,真空镀膜系统,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。





真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法


制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。真空状态需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。

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