




氧化物一氧化硅sio,二氧化硅sio2,二氧化钛tio2,二氧化锆zro2,二氧化铪hfo2,一氧化钛tio,五氧化三钛ti3o5,五氧化二铌nb2o5,五氧化二钽ta2o5,氧化钇y2o3,真空镀膜系统,氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。
其它化合物---锌zns,---znse,氮化钛tin,碳化硅sic,钛酸---latio3,钛酸钡batio3,钛酸---srtio3,钛酸镨prtio3,硫1化镉cds等真空镀膜材料。
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离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,真空镀膜系统,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。
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