真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。
真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和---性，真空镀膜系统厂家，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。
使用磁控溅射的真空镀膜机一般采用的是圆筒主体结构，结构上要---快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射枪，为了使真空室和元件有足够的强度，---在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。
焊接是真空室制造中的一道关键工序，---焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接，处在真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须---注意的是需做好防止生锈的措施。
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1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100a），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，sitio3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是sitio3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
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氧化物一氧化硅sio，二氧化硅sio2，二氧化钛tio2，二氧化锆zro2，二氧化铪hfo2，一氧化钛tio，五氧化三钛ti3o5，五氧化二铌nb2o5，五氧化二钽ta2o5，氧化钇y2o3，氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。
其它化合物---锌zns，真空镀膜系统，---znse，氮化钛tin，碳化硅sic，钛酸---latio3，钛酸钡batio3，钛酸---srtio3，钛酸镨prtio3，硫1化镉cds等真空镀膜材料。
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